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您现在的位置: 医学全在线 > 药学理论 > 中国药品专利文献 > 正文:噻唑和噁唑衍生物专利检索:专利号/专利人/发明人
    

噻唑和噁唑衍生物

医药数据库中心 药学论坛 盐野义制药株式会社/渡边文彦;田村嘉则
公开(公告)号 CN1273456C  
公开(公告)日 2006.09.06  
申请(专利)号 CN01816494.3  
申请日期 2001.09.28  
专利名称 噻唑和噁唑衍生物  
主分类号 C07D263/32(2006.01)I  
分类号 C07D263/32(2006.01)I;C07D277/26(2006.01)I;C07D413/12(2006.01)I;C07D417/04(2006.01)I;C07D417/12(2006.01)I;C07D417/14(2006.01)I;A61K31/421(2006.01)I;A61K31/422(2006.01)I;A61K31/426(2006.01)I;A61K31/427(2006.01)I;A61P9/04(2006.01)I;A61P11/00(2006.01)I;A61P13  
分案原申请号  
优先权 2000.9.29 JP 298199/2000  
申请(专利权)人 盐野义制药株式会社  
发明(设计)人 渡边文彦;田村嘉则  
地址 日本大阪府  
颁证日  
国际申请 2001-09-28 PCT/JP2001/008507  
进入国家日期 2003.03.28  
专利代理机构 中国专利代理(香港)有限公司  
代理人 张元忠;刘 冬  
国省代码 日本;JP  
主权项 一种式(I)的化合物,其旋光物或药学可接受的盐: 其中R1是羟基或低级烷氧基; R2是氢原子、任选被羧基、氨基甲酰基或低级烷硫基取代的低级烷基、任选被羟基取代的苯基、任选被羟基取代的苯甲基、任选被羟基取代的苯乙基、任选被羟基取代的吲哚基甲基或任选被羟基取代的咪唑基甲基; R3是氢原子或低级烷基; R7各自独立地是氢原子、卤素、低级烷基、环烷基、低级烯基、低级炔基、低级烷氧基、低级链烯氧基、低级烷硫基、卤代低级烷基、羟基、羧基、低级烷氧基羰基、氨基甲酰基、乙酰基、丙酰基、苯甲酰基、硝基、氰基、氨基、甲基氨基、二甲基氨基、乙基甲基氨基、二乙基氨基或乙酰基氨基; m是0、1、2或3。  
摘要 一种通式(I)的化合物,其旋光物、前药、药学可接受的盐或其异构体、前药或溶剂化物以及含有该化合物、其旋光物、前药、盐或溶剂化物的金属蛋白酶抑制剂;其中R1是羟基等;R2是任选取代的低级烷基等;R3是氢原子等;R4是任选取代的亚芳基等;R5是式(II)或(III)表示的基团等;R6是任选取代的芳基等。  
国际公布 2002-04-11 WO2002/028844 日  
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