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您现在的位置: 医学全在线 > 药学理论 > 中国药品专利文献 > 正文:用作腺苷受体的配体的苯并噻唑衍生物专利检索:专利号/专利人/发明人
    

用作腺苷受体的配体的苯并噻唑衍生物

医药数据库中心 药学论坛 弗·哈夫曼-拉罗切有限公司/A·弗洛尔;R·雅各布-劳特恩;R·D·诺可罗司;C·雷默
公开(公告)号 CN1791600A  
公开(公告)日 2006.06.21  
申请(专利)号 CN200480013562.4  
申请日期 2004.05.14  
专利名称 用作腺苷受体的配体的苯并噻唑衍生物  
主分类号 C07D417/14(2006.01)I  
分类号 C07D417/14(2006.01)I;C07D491/10(2006.01)I;C07D417/04(2006.01)I;A61K31/428(2006.01)I;A61P25/28(2006.01)I  
分案原申请号  
优先权 2003.5.19 EP 03011039.9  
申请(专利权)人 弗·哈夫曼-拉罗切有限公司  
发明(设计)人 A·弗洛尔;R·雅各布-劳特恩;R·D·诺可罗司;C·雷默  
地址 瑞士巴塞尔  
颁证日  
国际申请 2004-05-14 PCT/EP2004/005178  
进入国家日期 2005.11.18  
专利代理机构 北京市中咨律师事务所  
代理人 黄革生;安佩东  
国省代码 瑞士;CH  
主权项 通式I化合物及其可药用酸加成盐: 其中 R1是1,4-二氧杂环庚烷基或四氢吡喃-4-基; R2是-N(R)-(CH2)n-5-或6元非芳香族杂环,其任选地被一个或多个选自低级烷基或-NR2的取代基取代,或者 是-(CH2)n-5-或6元非芳香族杂环,其任选地被-(CH2)n-OH、低级烷基、低级烷氧基取代,或者 是-(CH2)n-5-或6元芳香族杂环,其任选地被低级烷基、低级烷氧基、卤素、卤代低级烷基、-CH2N(R)(CH2)2OCH3、-N(R)(CH2)2OCH3、-CH2-吗啉基或-CH2-吡咯烷基取代,或者 是(CH2)n-环烷基,其任选地被羟基取代,或者 是-N(R)-环烷基,其任选地被羟基或低级烷基取代,或者 是苯基,其任选地被低级烷氧基、卤素、卤代低级烷基、低级烷基、-CH2-吡咯烷-1-基、-CH2-吗啉基、-CH2N(R)(CH2)2OCH3或 -CH2-N(R)C(O)-低级烷基取代,或者 是1,4-二氧杂-8-氮杂-螺[4,5]癸烷,或者 是2-氧杂-5-氮杂-二环[2.2.1]庚烷,或者 是1-氧杂-8-氮杂-螺[4,5]癸烷,或者 是-N(R)-7-氧杂-二环[2.2.1]庚-2-基,或者 是2-氮杂-二环[2.2.2]癸烷; R是氢或低级烷基; n是0或1。  
摘要 本发明涉及用于治疗涉及A2A受体的疾病的通式I化合物及其可药用酸加成盐,其中R1是1,4-二氧杂环庚烷基或四氢吡喃-4-基;R2是-N(R)-(CH2)n-5-或6元非芳香族杂环,其任选地被一个或多个选自低级烷基或-NR2的取代基取代,或者是-(CH2)n-5-或6元非芳香族杂环,其任选地被-(CH2)n-OH、低级烷基、低级烷氧基取代,或者是-(CH2)n-5-或6元芳香族杂环,其任选地被低级烷基、低级烷氧基、卤素、卤代低级烷基、-CH2N(R)(CH2)2OCH3、-N(R)(CH2)2OCH3、-CH2-吗啉基或-CH2-吡咯烷基取代,或者是(CH2)n-环烷基,其任选地被羟基取代,或者是-N(R)-环烷基,其任选地被羟基或低级烷基取代,或者是苯基,其任选地被低级烷氧基、卤素、卤代低级烷基、低级烷基、-CH2-吡咯烷-1-基、-CH2-吗啉基、-CH2N(R)(CH2)2OCH3或-CH2-N(R)C(O)-低级烷基取代,或者是1,4-二氧杂-8-氮杂-螺[4,5]癸烷,或者是2-氧杂-5-氮杂-二环[2.2.1]庚烷,或者是1-氧杂-8-氮杂-螺[4,5]癸烷,或者是-N(R)-7-氧杂-二环[2.2.1]庚-2-基,或者是2-氮杂-二环[2.2.2]癸烷;R是氢或低级烷基;n是0或1。  
国际公布 2005-01-06 WO2005/000842 英  
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